ASML遭禁DUV光刻機運中國 美國政府施壓 提前撤銷許可證
原文刊於信報財經新聞「EJ Tech 創科鬥室」
光刻機是生產晶片的必要設備，內地半導體行業受技術所限，現時仍依賴從海外採購該儀器。荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）元旦證實，荷蘭政府撤銷了部分出口許可證，無法向中國運送某些晶片製造設備，包括DUV（深紫外光）光刻機NXT:2050i及NXT:2100i。不過，艾司摩爾預料，即使撤銷出口許可證，又或美國最新的出口管制，都不會對其2023年財務展望構成重大影響。
美國對艾司摩爾施壓始於2019年，當時特朗普政府促使荷蘭政府頒禁令，不准向中國銷售頂級EUV（極紫外光）微影設備。彭博提到，艾司摩爾原本已取得許可證，可在1月出口管制生效前，向中國出口3台中等關鍵（Mid Critical）的DUV設備。據知情人士透露，美國官員提前聯絡了艾司摩爾，要求即時停止向中國客戶發貨。
中國外交部發言人汪文斌昨表示，中方一貫反對美國泛化國家安全概念，以各種藉口脅迫其他國家搞對華科技封鎖。他提到，半導體是高度全球化的產業，在各國經濟深度融合的背景下，美方有關霸道霸凌行徑嚴重違背國際貿易規則，嚴重破壞全球半導體產業格局，嚴重衝擊國際產業鏈供應鏈的安全和穩定，必將自食其果。
內地急購 5個月進口飆5倍
汪文斌提到，中方敦促荷方，秉持客觀公正立場和市場原則，尊重契約精神，以實際行動維護中荷兩國和雙方企業的共同利益，維護國際產業鏈供應鏈的穩定和自由開放、公正、非歧視的國際貿易環境。中方將密切關注有關動向，堅決維護自身合法權益。
彭博引述中國海關數據【見圖】，於2023年7月至11月期間，中國光刻機進口額按年激增5倍多，高達37億美元（約288.6億港元）。以2023年第三季為例，中國憑佔近半銷售額（46%），超越台灣及南韓，成為艾司摩爾的最大市場。相比去年首季（8%）及次季（24%）的數字，銷售額升幅相當明顯。
上海微電子傳自產28納米設備
艾司摩爾行政總裁溫寧克（Peter Wennink）將於今年4月離任，他去年10月告訴投資者，新限制措施將影響公司約15%的內地銷售額。同時，他公開反對這些限制措施，警告說此舉促使中國開發競爭性技術，「你給他們的壓力愈大，他們愈可能加倍努力。」彭博近日報道，上海微電子裝備集團（SMEE）完成自主研發、真正國產的28納米光刻機（型號為SSA800-10W）。
報道指出，消息是由SMEE的第四大股東、國有企業張江集團首先在微信發布，帖文導致其股價漲8%。後來，張江集團刪除了對28納米的描述，原因未明。至於SMEE現時量產的SSA600系列，能夠應用於90納米、110納米、280納米光刻技術。事實上，台積電於 2011 年已推出28納米製程工藝，這項技術經過十多年已趨成熟，對智能手機、電動車等眾多產品至關重要。
若SMEE所研發的SSA800系列機器能夠提供28納米的光刻技術，中國與業界領先者的差距，有望由20年縮減至15年。此外，艾司摩爾去年12月底向美國晶片商英特爾（Intel）交付全球第一台半導體先進製程設備「高數值孔徑極紫外光」（High-NA EUV）系統，預料將成為2納米以下製程關鍵工具。
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